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Echtzeit-Aktienkurs ASML Holding N.V.
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Echtzeit-Chart der ASML Holding N.V. Aktie
Börsenkurse ASML Holding N.V.
| Börse Frankfurt | - | - | - | - | 676,800€ | -1,98% |
| Xetra | - | - | - | - | 683,300€ | -0,91% |
| Tradegate | - | - | - | - | 677,200€ | -1,39% |
| Bats EU | - | - | - | - | 721,000€ | 2,59% |
| Lang & Schwarz | - | - | - | - | 676,050€ | -1,59% |
| Echtzeit Euro | - | - | - | - | 676,100€ | -2,13% |
| Börse Stuttgart | - | - | - | - | 686,300€ | -0,12% |
| gettex | - | - | - | - | 676,700€ | -1,21% |
Fundamentaldaten der ASML Holding N.V. Aktie
Aktuelle Geschäftsentwicklung
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Income Statement: 10-Year-Summary
| Datum | Umsatz | EBIT | Gewinn | EPS | Dividende | KGV | KUV |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 2023 [EUR] | 27,56 Mrd. | 9,08 Mrd. | 7,84 Mrd. | 19,91 | 0,85% | 36,22 | 10,29 |
| 2022 [EUR] | 21,17 Mrd. | 6,46 Mrd. | 5,62 Mrd. | 14,14 | 0,80% | 50,98 | 13,44 |
| 2021 [EUR] | 18,61 Mrd. | 6,71 Mrd. | 5,88 Mrd. | 14,36 | 0,76% | 50,22 | 15,60 |
| 2020 [EUR] | 13,98 Mrd. | 4,02 Mrd. | 3,55 Mrd. | 8,50 | 0,38% | 84,86 | 21,48 |
| 2019 [EUR] | 11,82 Mrd. | 2,77 Mrd. | 2,59 Mrd. | 6,16 | 0,33% | 117,05 | 25,61 |
| 2018 [EUR] | 10,94 Mrd. | 2,94 Mrd. | 2,59 Mrd. | 6,10 | 0,29% | 118,22 | 27,74 |
| 2017 [EUR] | 9,05 Mrd. | 2,45 Mrd. | 2,12 Mrd. | 4,93 | 0,19% | 146,28 | 34,04 |
| 2016 [EUR] | 6,79 Mrd. | 1,69 Mrd. | 1,47 Mrd. | 3,46 | 0,17% | 208,50 | 45,62 |
| 2015 [EUR] | 6,29 Mrd. | 1,55 Mrd. | 1,39 Mrd. | 3,22 | 0,15% | 223,84 | 49,08 |
| 2014 [EUR] | 5,86 Mrd. | 1,27 Mrd. | 1,20 Mrd. | 2,74 | 0,10% | 263,43 | 53,30 |
| Die Multiples wie die KGVs werden mit der Bilanzwährung und dem Kurs des ausgewählten Börsenplatzes berechnet. Wählen Sie den Börsenplatz mit der Bilanzwährung aus, damit die Multiples korrekt sind. Die fundamentalen Daten werden von Facunda geliefert; Multiples werden mit dem aktuellen Kurs berechnet. | |||||||
Profil der ASML Holding N.V. Aktie
ASML wurde 1984 gegründet. Der Sitz ist in den Niederlanden. Das Unternehmen ist führend bei Fotolithografiesystemen für die Herstellung von Halbleitern. Bei der Fotolithografie wird eine Lichtquelle verwendet, um Schaltkreismuster von einer Fotomaske auf einen Halbleiterplättchen zu belichten. Aktuelle Fortschritte ermöglichen es den Chipherstellern, die Anzahl der Transistoren auf der gleichen Siliziumfläche kontinuierlich zu erhöhen, wobei die Lithografie früher einen erheblichen Teil der Kosten für die Herstellung von Spitzenchips ausmachte. Chip-Hersteller benötigen EUV-Lithographie-Werkzeuge der nächsten Generation von ASML, um den 5-Nanometer-Prozessknoten zu überwinden. Die Produkte von ASML werden bei allen großen Halbleiterherstellern eingesetzt, darunter Intel, Samsung und TSMC.