89,430€
0,10%
Echtzeit-Aktienkurs Advanced Energy Industries Inc.
Bid:
Ask:
Echtzeit-Chart der Advanced Energy Industries Inc. Aktie
Börsenkurse Advanced Energy Industries Inc.
Börse Frankfurt | - | - | - | - | 89,440€ | -0,08% |
Euro Indikation | - | - | - | - | 89,430€ | -2,28% |
Lang & Schwarz | - | - | - | - | 89,430€ | 0,10% |
Nasdaq | - | - | - | - | 97,000$ | -2,18% |
Börse Stuttgart | - | - | - | - | 89,430€ | -3,28% |
Tradegate | - | - | - | - | 89,430€ | 0,10% |
Dollar Indikation | - | - | - | - | 95,972$ | 0,19% |
Fundamentaldaten der Advanced Energy Industries Inc. Aktie
Aktuelle Geschäftsentwicklung
Sie benötigen die TraderFox Börsensoftware, um die aktuelle Geschäftsentwicklung einsehen zu können.
Income Statement: 10-Year-Summary
Datum | Umsatz | EBIT | Gewinn | EPS | Dividende | KGV | KUV |
---|---|---|---|---|---|---|---|
2021 [USD] | 1,46 Mrd. | 148,71 Mio. | 134,74 Mio. | 3,51 | 0,45% | 25,46 | 2,31 |
2020 [USD] | 1,42 Mrd. | 158,15 Mio. | 134,68 Mio. | 3,49 | - | 25,60 | 2,42 |
2019 [USD] | 788,95 Mio. | 67,19 Mio. | 64,94 Mio. | 1,69 | - | 53,01 | 4,35 |
2018 [USD] | 718,89 Mio. | 172,38 Mio. | 147,03 Mio. | 3,74 | - | 23,94 | 4,75 |
2017 [USD] | 671,01 Mio. | 198,19 Mio. | 137,86 Mio. | 3,43 | - | 26,07 | 5,28 |
2016 [USD] | 483,70 Mio. | 128,08 Mio. | 127,45 Mio. | 3,18 | - | 28,12 | 7,34 |
2015 [USD] | 414,81 Mio. | 105,44 Mio. | -158,49 Mio. | -3,86 | - | - | 8,57 |
2014 [USD] | 583,10 Mio. | 39,68 Mio. | 46,98 Mio. | 1,14 | - | 78,45 | 6,23 |
2013 [USD] | 547,00 Mio. | 14,28 Mio. | 32,09 Mio. | 0,79 | - | 113,20 | 6,62 |
Die Multiples wie die KGVs werden mit der Bilanzwährung und dem Kurs des ausgewählten Börsenplatzes berechnet. Wählen Sie den Börsenplatz mit der Bilanzwährung aus, damit die Multiples korrekt sind. Die fundamentalen Daten werden von Facunda geliefert; Multiples werden mit dem aktuellen Kurs berechnet. |
Profil der Advanced Energy Industries Inc. Aktie
Advanced Energy Industries, Inc. engages in the provision of precision power conversion, measurement, and control solutions. It offers products used in complex semiconductor and thin film plasma processes such as dry etch, strip, chemical and physical deposition; high and low voltage applications such as process control, analytical instrumentation and medical equipment; and in temperature-critical thermal applications such as material and chemical processing. The company was founded by Douglas S. Schatz in 1981 and is headquartered in Fort Collins, CO.